当協会の人材育成事業は各企業の技術者専門教育の一端を担うことを狙いとしております。内容はオプト
メカトロニクス技術(光工学、電子工学、及び機械工学を融合した技術)のうち、光学設計・フォトニクス・画像
技術・光学加工の4分野をカバーする我が国随一の充実した内容です。なお、受講にあたり人材育成事業の
「 特徴」 「 受講ガイド」をご参照の上、お申し込み下さいますようお願いいたします。 |
技 術 研 修 会 |
光応用技術研修会は、オプトメカトロニクス技術関連の技術者育成に対しての導入教育の役割をもち、光技術の全体にわたる概括的講義を網羅して、その分野の概要をつかむことを目的としております。
本技術研修会は受講後、個別の技術講座(下記のとおり)を順次受講してステップアップしていくことをお勧めいたします。
なお、本技術研修会は各企業様の技術者導入教育の一環として取り入れていただいております。 |
2009年 光応用技術研修会の会場は、三田NNホール
から長井記念ホールに変更いたしました。 | 受付中 |
講義日 平成21年5月26日〜29日,
6月1日〜3日 【計7日間】
試験日 平成21年7月9日〜10日
【計2日間】 |
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技 術 講 座 |
各分野の専門的な技術教育を行うのが技術講座です。受講者レベルに応じて下記のように複数の講座が用意されています。
上記の光応用技術研修会を受講後、各分野の技術講座を初級から中級へと受講者のレベルアップに伴い順次受講していくことをお勧めいたします。 |
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開講日 平成21年6月16日〜7月15日
【計8日間】 |
| | 開講日 平成21年6月26日 【1日】 |
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開講日 平成21年7月23日〜24日
【計2日間】 |
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開講日 平成21年9月〜
平成22年1月 予定
【計9日間】 |
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開講日 平成21年9月 予定
【計2日間】 |
平成21年度より「光学素子加工技術講座」を名称変更しました。
光学素子加工技術入門 | |
開講日 平成21年10月 予定
【計3日間】 |
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開講日 平成21年11月 予定
【計2日間】 |
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開講日 平成21年11月 予定
【計2日間】 |
平成21年度 新設の講座です。
高機能光学素子加工技術 | | 開講日 平成21年11月 予定 【1日】 |
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開講日 平成21年12月 予定
【計2日間】 |
| | 開講日 平成22年1月 予定 【1日】 |
平成21年度 新設の講座です。
ディジタルカラー画像の解析・評価 (仮称) | |
開講日 平成22年1月 予定
【計2日間】 |
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開講日 平成22年1月〜2月 予定
【計6日間】 |
| | 開講日 平成22年2月 予定 【1日】 |
平成21年度は休講いたします。
ディジタル画像基礎技術 | |
開講日 平成22年9月 予定
【計3日間】 |
| | 開講日 未定 |
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セミナー・シンポジウム |
眼光学チュートリアルセミナー
(講義内容の詳細につきましては4月末に
お知らせいたします。) | 受付中 |
講義日 平成21年8月1日〜2日
【計2日間】 |
光部品生産技術部会主催公開セミナー | 計画中 | 講義日 平成21年10月 予定 【1日】 |
光学系設計技術部会主催公開セミナー | 計画中 | 講義日 平成21年11月 予定 【1日】 |
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講義内容や参加申込書等を記載したパンフレットは、PDFファイルになっています。詳細をご覧になりたい方
はお手数をお掛けいたしますが、各講座にあるPDFのロゴをクリックして下さい。
(受付中と表記されていないテーマ名の後にあるパンフレットは、ご参考に前回のパンフレットを掲載しています。)
受講希望の方は、申し込みフォームに進み、必要事項を記入の上、申し込み下さい。なお、申し訳ありませ
んが、確認のご連絡はさせていただいておりませんので、1週間以上過ぎても受講票等が届かない場合は、
お手数をお掛けいたしますがお電話(03-3435-9321)をお願いいたします。
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光応用技術研修会
2009年 光応用技術研修会の会場は、三田NNホールから
長井記念ホールに変更いたしました。 | |
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開催概要
目 的:本研修会は、主として新入社員及び職業経験年数1〜3年の若手の方々に対して、光応用技術
についての総合研修として、教養課目4科目及び光応用に関する要素技術16科目について
7日間講義を行い、その後約1カ月の期間をおいて参加者に対して、要素技術16科目のテスト
を行います。
本テストは、受講後教本による復習の効果をあげることを目的としたもので、教本を見ながら
解答できます。なお、要素技術全16科目の受験者には、修了証書をお渡しいたします。
講 義 日:平成21年5月26日(火)〜29日(金),6月1日(月)〜3日(水) [7日間]
時 間:9:00〜17:20 (終了時間は日にちによって異なります。)
会 場:日本薬学会 長井記念館 地下2階 長井記念ホール
(東京都渋谷区渋谷2−12−15) 会場案内
テスト日:平成21年7月9日(木)〜10日(金) [2日間]
時 間:10:00〜17:00 (10日は午後4時30分で終了します。)
会 場:日本薬学会 長井記念館 地下2階 長井記念ホール
(東京都渋谷区渋谷2−12−15) 会場案内
講義内容:
[教養科目] 1.我が国の機械工業技術 永壽伴章氏(独立行政 産業技術総合研究所)
2.オプトメカトロニクス産業 吉澤 徹氏(埼玉医科大学 教授)
3.工業標準化制度 飯塚敏之氏(財団法人日本規格協会)
4.特許制度 白石光男氏(あいわ内外特許事務所 元特許庁)
[基礎科目] 5.幾何光学 羽島正紘氏(前 防衛医科大学校)
6.波動光学 黒田和男氏(東京大学)
7.光物理(フォトニクス) 伊藤治彦氏(東京工業大学)
8.色彩工学 大田 登氏(ロチェスター工科大学)
9.光学系の特性 辻内順平氏(東京工業大学 名誉教授)
[応用科目]10.光学機器 田中正司氏(株式会社ニコン)
11.画像処理 一岡芳樹氏(大阪大学名誉教授)
12.画像の特性 三宅洋一氏(千葉大学)
13.光記録 米澤成二氏(株式会社コメッツ)
14.光計測 藤村貞夫氏(帝京平成大学)
15.光通信 菊池和朗氏(東京大学)
16.テレビ映像機器 浮ケ谷文雄氏(株式会社日立国際電気)
[周辺科目]17.光学部品加工 早瀬敏郎氏(キヤノン株式会社)
18.光学薄膜 岡本幹夫氏(株式会社ニコン)
19.光学ガラス 小野沢雅浩氏(株式会社オハラ)
20.光学プラスチック 太田浩二氏(独立行政 産業技術総合研究所)
(テストは教養科目を除く16課目を対象)
定 員:150名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正 会 員 テストを受ける方 122,850円 / テストを受けない方 109,200円
賛助会員 テストを受ける方 151,200円 / テストを受けない方 134,400円
一 般 テストを受ける方 189,000円 / テストを受けない方 168,000円
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開催概要
目 的:本講座では、光学機器の光学設計の基本となる課題を取り上げ、理解を深めることに主眼
をおき、理想的な光学系の結像・光学系にとって大切な絞りとその作用・光学系の基本的な
タイプの諸例・平面鏡とプリズムの光学・幾何光学的な収差・設計の良否の判定に資する
幾何光学及び波動光学的な像評価、さらには、レーザビームの光学系や像の明るさと照明系
について解説する。
会 期:平成21年6月16日(火),17日(水),23日(火),24日(水),
7月 7日(火), 8日(水),14日(火),15日(水) [8日間]
時 間:10:30〜16:30
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:山本公明氏(KMオプトラボ/元オリンパス株式会社)
講義内容:1.理想光学系の結像
2.光学系の絞りとその応用
3.光学系の概要
4.平面鏡とプリズム
5.幾何光学的な収差−光線収差
6.結像性能の評価
7.レーザビームの光学特性
8.像の明るさと照明系
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 105,000円 / 賛助会員 130,200円 / 協 賛 147,000円 / 一 般 162,750円
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開催概要
目 的:本講座は、これから光学系を取り扱ったり、設計する仕事に携わろうとする初心者のために、
軸理論を中心にした光学系の基礎理論を、体系的に理解してもらうことを目的として開催する
ものです。
とくに、収差論を学ぼうと考えておられる方々は、近軸理論についての理解が前段階として
必要となります。
会 期:平成22年1月下旬〜2月下旬 (毎週一日) 予定 [6日間]
時 間:13:30〜17:00 (2回目以降 13:15より開講)
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:荒木敬介氏(キヤノン株式会社 オプティクス技術開発センター/
宇都宮大学 オプティクス教育研究センター 客員教授)
講義内容:1.序論
2.結像光学系の基礎(1)近軸理論
3.結像光学系の基礎(2)収差とその性質
4.結像光学系の機能
5.レーザー用光学系の基礎
6.レーザー用光学系の機能とその応用
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 74,550円 / 賛助会員 92,400円 / 協 賛 103,950円 / 一 般 115,500円
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収 差 論 (偏心光学系の3次の収差論を含みます。) | 申し込みフォーム |
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開催概要
目 的:本講座は、専門性の高い内容となっておりますので、既にJOEM主催の「光学系基礎理論」
技術講座(講師・荒木敬介先生)を受講された方、または実務で1〜2年以上の光学設計に
携わっている方を対象としております。
講義のほか演習を加え、受講生が光学設計における収差論の意義と役割を実際に体得される
ことを主眼にしています。多様な光学系に対する収差係数の正規化について統一的な理解が
できるように配慮されています。
会 期:【収差論】
平成21年9月上旬〜12月下旬(隔週一日) 予定 [計8日間]
【偏心光学系の3次の収差論】
平成22年1月上旬 予定 [1日]
時 間:13:30〜17:00 (2回目以降は前回アンケートによる補講を行う為、13:15より開講)
但し、最終日の”偏心光学系の3次の収差論”は、10:30〜17:00となります。
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:荒木敬介氏(キヤノン株式会社 オプティクス技術開発センター/
宇都宮大学 オプティクス教育研究センター 客員教授)
講義内容:【収差論】
1.序論
2.収差論の導出
3.実用的な収差論とその公式
4.収差論応用のケーススタディ
【偏心光学系の3次の収差論】
1.序論
2.偏心光学系の3次の収差展開式
3.任意のエレメントの平行移動によって発生する収差項
4.任意のエレメントの傾きによって発生する収差項
5.応用例(JNLTとその光学系他)
6.理論式の導入(回転対称な光学系の3次の収差展開式他)
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 105,000円 / 賛助会員 130,200円 / 協 賛 147,000円 / 一 般 162,750円
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開催概要
目 的:本講座は、専門性の高い内容となっておりますので、既にJOEM主催の「収差論」技術
講座(講師・荒木敬介先生)を受講された方、または同等の実務経験のある方を対象と
しております。
講義のほか演習を加え、常につきまとう偏心の問題に適用できるよう配慮されています。
会 期:平成22年1月 予定 [1日]
時 間:10:30〜17:00
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:荒木敬介氏(キヤノン株式会社 オプティクス技術開発センター/
宇都宮大学 オプティクス教育研究センター 客員教授)
講義内容:1.序論
2.偏心光学系の3次の収差展開式
3.任意のエレメントの平行移動によって発生する収差項
4.任意のエレメントの傾きによって発生する収差項
5.応用例(JNLTとその光学系他)
6.理論式の導入(回転対称な光学系の3次の収差展開式他)
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 16,800円 / 賛助会員 21,000円 / 協 賛 23,520円 / 一 般 26,250円
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開催概要
目 的:本講座は、波動光学の概要を電磁気の方程式から出発して理解することを目標としています。
特に、自由空間伝播、偏光、結晶光学、単一面および多層膜での屈折・反射、干渉の基礎と
その応用、回折とその応用、それらを利用した結像論とホログラフィーについて、できるだけ
統一的な立場から説明します。また、同時に各現象の間の関連および最近の応用例に関しても
ふれる予定です。
会 期:平成21年9月 予定 [2日間]
時 間:10:00〜17:00
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:山口一郎氏(理化学研究所 名誉研究員 PhD/元群馬大学 工学部 教授)
講義内容:1.光の伝播
2.屈折と反射における光波の変化
3.干渉
4.回折と散乱
5.干渉と回折の応用
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 45,150円 / 賛助会員 54,600円 / 協 賛 60,900円 / 一 般 68,250円
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開催概要
目 的:本講座では、特にレンズの設計を中心とする光学系の研究開発技術者を対象に、光学系の
像形性と評価に関して実空間におけるコンボリューションやフーリエスペクトル空間に
おけるOTFの概念などの理解をより深くすることを目的としています。
会 期:平成21年11月 予定 [2日間]
時 間:10:00〜16:00
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:小川良太氏(HOYA株式会社)
講義内容:1.実空間における像形成
2.フーリエスペクトル空間における像形成
3.回折積分による点像の導出
4.波動光学的OTF
5.パーシャリーコヒーレント照明下における像形成
6.OTFの利用法
7.デジタル画像
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 45,150円 / 賛助会員 54,600円 / 協 賛 60,900円 / 一 般 68,250円
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開催概要
目 的:本講座は、光学系設計の基礎を学び、すでに知られているタイプからの初期データ製作
だけでなく、新しいニーズに対応した初期のデータの作製手法、および、それをベース
にした自動設計の利用法を学ぶことを第一の目的としています。また、自動設計理論と
Tolesプログラムの最適化技術を学ぶことも計画しています
会 期:平成21年7月23日(木)〜24日(金) [2日間]
時 間:10:00〜16:30
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:田島 晃氏(キヤノン株式会社 顧問)
田井正邦氏(田井光学有限会社 代表取締役)
松岡和雄氏(オプトソリューション)
金井守康氏(HOYA株式会社 光学研究所)
米窪 健氏(元 オリンパス株式会社 技術開発本部長)
草川 徹氏(草川光学研究所/元 東海大学 工学部 教授)
講義内容:1日目
1.レンズ設計原論 (田島先生)
2.高倍ズームレンズの設計 (田井先生)
3.大口径レンズの設計 (松岡先生)
4.双眼鏡レンズの設計 (金井先生)
2日目
5.顕微鏡レンズの設計 (米窪先生)
6.光学系の自動設計の理論 (草川先生)
7.自動設計の実際 (草川先生)
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 45,150円 / 賛助会員 54,600円 / 協 賛 60,900円 / 一 般 68,250円
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開催概要
目 的:本講座では、ズームレンズの近軸理論的な部分から、ズームレンズ特有の収差バランスの
取り方や誤差に関する考え方などについての基本的な知識、さらに最近のディジタルカメラ用
ズームレンズについてのトピックス的事項などに関する講義に加え、計算機を用いた演習を通
して、受講者の方々に感覚的に理解していただくことも意図しています。
会 期:平成21年11月 予定 [2日間]
時 間:10:00〜17:00
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:福嶋 省氏(コニカミノルタオプト株式会社)
講義内容:1.ズームレンズとは
2.ズームレンズの基本構成
3.ズームレンズの各種タイプ実例
4.ズームレンズの最近の話題
5.主要ズームタイプの振り返りとズーム解の一般化
6.ズームレンズ設計のプロセス
7.ズームレンズの特性行列と固有係数(山路氏の方法概説)
8.発展的設計
9.設計事例の紹介
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 45,150円 / 賛助会員 54,600円 / 協 賛 60,900円 / 一 般 68,250円
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平成21年度 は休講いたします。
ディジタル画像基礎技術 | 申し込みフォーム |
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開催概要
目 的:デジタルカメラをはじめとする多くのマルチメディア機器の開発設計においては、ディジタル
画像データの取り扱いが基本的かつ極めて重要であり、入力から出力に至るまでの一連のプロ
セスを基礎から理解することが必要不可欠です。
本講座では、単に個々の技術の詳細を説明するのではなく、"こうすることがなぜ効果的なの
か?"という観点から、種々の画像情報技術の原理や、その基盤となる現象・原理について
わかりやすく解き明かすことを目的としています。
会 期:平成22年9月 予定 [3日間]
時 間:1日目 10:30〜17:00 2日目以降 9:30〜17:00
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:加藤茂夫氏(宇都宮大学 工学部 情報工学科 教授)
講義内容:1.ディジタル画像情報処理への扉を開く
2.ディジタル画像情報処理のための基礎知識
3.画像を見やすくするための技法を学ぼう
4.画像を効率よく伝送するための技法を学ぼう
定 員:30名
参 加 費: (テキスト代・消費税を含む)(予定)
デジタル・イメージング技術部会登録企業 52,500円 / 正会員 61,950円 /
賛助会員 75,600円 / 協 賛 85,050円 / 一 般 94,500円
※ デジタル・イメージング技術部会にご登録をされている企業は参加費が割安になります。
【ご登録企業名】
オリンパス、キヤノン、コニカミノルタオプト、コニカミノルタテクノロジーセンター、
スタンレー電気、トプコン、ニコン、日東光学、富士フイルム、HOYA、
マミヤ・デジタル・イメージング、リコー、理想科学工業
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CCD/CMOSカメラ信号処理技術入門 | 申し込みフォーム |
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開催概要
目 的:本講座は、CCD/CMOSイメージセンサーを用いたカメラシステムの基礎である
光学系、CCD/CMOSイメージセンサーの原理、及びその応用例、カメラ信号
処理系、電子回路の基礎、ビデオ信号の伝送、カメラシステム評価、色再現性など
基本的な技術要素について解説します。
CCDやCMOSイメージセンサーの設計及びこれらを用いたカメラ信号処理回路
設計や実装技術、評価技術に従事している技術者を対象としております。
会 期:平成21年6月 26日(金) [1日]
時 間:10:00〜17:00
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:鈴木茂夫氏(有限会社イーエスティー 代表取締役)
講義内容:1.光学系の基礎
2.CCD・CMOSイメージセンサー
3.カメラ信号処理プロセス
4.電子回路の基礎
5.ビデオ信号の伝送、カメラシステムの評価
6.色の再現性
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 25,200円 / 賛助会員 30,450円 / 協 賛 34,650円 / 一 般 38,850円
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平成21年度 新設の講座です。
ディジタルカラー画像の解析・評価(仮称) | 申し込みフォーム |
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開催概要
目 的:検討中
会 期:平成22年1月下旬 予定 [2日間]
時 間:10:00〜17:00(予定)
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:三宅洋一氏(千葉大学)
講義内容:1.マルチメディア時代の画像再現
(予定) 2.写真、印刷、テレビの色再現
3.ディジタル画像の形成
4.色の測定
5.表色
6.視覚の特性
7.画像の主観評価
8.画像の物理評価
9.異なったデバイス間の色変換
10.分光反射率の推定とその応用
11.視覚特性に基づく画像再現と評価
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)(予定)
正会員 45,150円 / 賛助会員 54,600円 / 協 賛 60,900円 / 一 般 68,250円
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平成21年度 から「光学素子加工技術」を名称変更しました。
光学素子加工技術入門
−レンズ・プリズム加工のメカニズムと要素技術− | 申し込みフォーム |
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開催概要
目 的:本講座は、光学素子加工の自動化及び応用分野の発展をはかる上で、欠くことのできない
要素技術について、基礎的な総合研修を行うことを目的とした基礎コースです。
また、本講座は今後の重要技術である光学素子の加工及び計測技術の培養と時代に対応した
発展を図るため、学識経験者の協力を受け、関連メーカーの教育担当部門と共同して実施
しております。
なお、光学素子加工技術の転換期に当たって当協会会員各社のグループ企業の方々にも受講
していただくよう、参加費が当協会会員会社と同額になります。
会 期:平成21年10月予定 [3日間]
時 間:初日;10:00〜18:00 二日目以降;9:00〜17:00
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:白井 健氏(株式会社ニコン)
立和名一雄氏(HOYA株式会社)
三原伸一氏(オリンパス株式会社)
沼野一三氏(キヤノン株式会社)
柳沢 剛氏(光学コンサルタント/メレスグリオ株式会社)
村富敬治氏(株式会社トプコン)
臼井 巌氏(コニカミノルタオプト株式会社)
小寺茂雄氏(フジノン株式会社)
齋藤隆行氏(フジノン株式会社)
講義内容:1日目
1.プラスチック光学素子の加工 (白井先生)
2.光学材料と加工 (立和名先生)
3.光学素子の種類,機能,所要精度(三原先生)
2日目
4.研削・研磨 (沼野先生)
5.光学素子の加工工程 (柳沢先生)
3日目
6.表面処理・接合 (村富先生)
7.心取・洗浄 (臼井先生)
8.検査・測定 (小寺先生&齋藤先生)
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 67,200円 / 賛助会員 81,900円 / 協 賛 92,400円 / 一 般 102,900円
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平成21年度 新設の講座です。
高機能光学素子加工技術 | 申し込みフォーム |
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開催概要
目 的:検討中
会 期:平成21年11月予定 [1日]
時 間:10:00〜17:00(予定)
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:検討中
講義内容:企画中
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)(予定)
正会員 25,200円 / 賛助会員 30,450円 / 協 賛 34,650円 / 一 般 38,850円
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開催概要
目 的:本講座は、今後様々な分野でニーズが高まる光学薄膜技術の基礎から応用までを取り扱い
ます。
また、毎年、受講者のご意見を基に見直しを図っており、今年度も光学薄膜設計シミュ
レーションソフトとして人気の高いTF Calcを用いて、受講生1名に対してパソコンを1台
ご用意し、光学薄膜に対する実践的な技術習得を目指します。
※ 最新の薄膜設計ソフト(TFCalc)で薄膜設計を体験学習していただくため、パソコンを
1人に1台貸与し、さらに研修効果を高めるために講義で使うソフトのデモ版を事前
にお送りいたします。
会 期:平成21年12月予定 [2日間]
時 間:9:00〜17:30
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:秋山貴之氏(株式会社ニコン)
生水利明氏(オプトグリーン)
臼井 巖氏 (コニカミノルタオプト株式会社)
松本繁治氏(株式会社シンクロン)
姜 友松氏(株式会社シンクロン)
講義内容:1日目
秋山貴之氏
・光学薄膜の基礎理論
・計算機による薄膜設計
・光学薄膜の種類と膜構成 −反射防止膜 反射増強膜他
生水利明氏
・成膜材料,膜層制御
・成膜方法 −真空蒸着 イオン成膜 スパッタリング他
・評価 −ISO9211 光学特性他
2日目
臼井 巖氏
・各種機器に搭載されている光学薄膜の現状
・光学薄膜の各種部品への応用 −反射防止膜他
・成膜プロセスの設定
松本繁治氏
・光学薄膜用成膜装置の変遷
姜 友松氏
・最近の成膜装置IAD(Ion beam Assisted Deposition法)と
RAS(Radical Assisted Sputtering法)の成膜技術を中心として
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 56,700円 / 賛助会員 69,300円 / 協 賛 77,700円 / 一 般 87,150円
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平成21年度 は休講いたします。
基礎からよく分かる光機能デバイス入門 | 申し込みフォーム |
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開催概要
目 的:本講座は、基本的な光デバイスを、出来る限り基本にさかのぼって理解できるよう努める。
また、例えば時間周波数と空間周波数の概念、あるいは回折格子の分散とファイバの分散は
共通の考え方で理解できることがわかるであろう偏光素子、干渉計、レンズ、導波路などの
基本デバイスを用いて光波をどのように制御できるかを、理解していきたい。
会 期:未定 [2日間]
時 間:10:00〜17:00
会 場:機械振興会館 別館4階(当協会研修室)(東京都港区芝公園3−5−22) 会場案内
講 師:黒川隆志氏(東京農工大学 共生科学技術研究院 教授)
講義内容:1.偏光の制御
・ジョーンズ行列による偏光の取り扱い
・複屈折を利用した素子
2.時間位相の制御
・干渉計
・光共振器
3.波面の制御
・空間位相の制御と空間変調
・光学レンズ
・回折格子
4.導波光の制御
・導波路中の光伝搬
・導波路分散と伝送容量
・方向性結合器
5.物質と光の相互作用
・電気光学効果
・磁気光学効果
6.非線形光学効果
・2次の非線形光学効果
・3次の非線形光学効果
7.光のフィルタ
・信号処理フィルタ
・空間フィルタ
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 45,150円 / 賛助会員 54,600円 / 協 賛 60,900円 / 一 般 68,250円
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開催概要
目 的:本講座は、発展著しい「ナノ領域の光学」を、基礎から分かりやすく解説するチュートリアル
である。各項目ともその分野の最先端で活躍中の先生方に、屈折率分散や群屈折率の概念から、
ナノ光学に特有な現象の原理の理解と、それらの制御をもとにした様々な応用まで系統的な解説
をお願いしている。微細構造の光学を基礎から応用まで学びたい若手技術者、新しい光学の応用
を目指す光学設計者に最適な、コンパクトで役に立つ講座である。
会 期:平成22年2月 予定 [1日]
時 間:10:00〜16:40
会 場:機械振興会館 地下3階 B3-2号室(東京都港区芝公園3−5−8) 会場案内
講 師:黒田和男氏(東京大学)
(予定) 馬場俊彦氏(横浜国立大学)
菊田久雄氏(大阪府立大学)
田丸博晴氏(東京大学)
田中拓男氏(理化学研究所)
講義内容:1.分散と非線形効果 (黒田和男先生)
2.フォトニック結晶とその応用 (馬場俊彦先生)
3.サブ波長格子と表面プラズモン (菊田久雄先生)
4.金属ナノ粒子の共鳴光散乱 (田丸博晴先生)
5.プラズモニック・メタマテリアル (田中拓男先生)
※一部講義内容を変更する場合はございます。
定 員:30名
参 加 費:(テキスト代・消費税を含む)
正会員 25,200円 / 賛助会員 30,450円 / 協 賛 34,650円 / 一 般 38,850円
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眼光学チュートリアルセミナー
(講義内容の詳細につきましては4月末にお知らせいたします。) | |
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会 期:平成21年8月1日(土)〜2日(日) [2日間]
時 間:8月1日は午前10時〜午後5時
8月2日は午前 9時〜午後4時
会 場:日本薬学会 長井記念館 地下2階 長井記念ホール
(東京都渋谷区渋谷2−12−15) 会場案内
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光部品生産技術部会主催公開セミナー
(現在、計画中です。) | 申し込みフォーム |
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会 期:平成21年10月予定 [1日]
時 間:10:00〜17:00 (予定)
会 場:機械振興会館 地下3階 (東京都港区芝公園3−5−8) 会場案内
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光学系設計技術部会主催公開セミナー
(現在、計画中です。) | 申し込みフォーム |
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会 期:平成21年11月予定 [1日]
時 間:10:00〜17:00 (予定)
会 場:機械振興会館 地下3階 (東京都港区芝公園3−5−8) 会場案内
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